單項(xiàng)選擇題晶體管發(fā)生低擊穿時(shí),其擊穿電壓只有幾個(gè)伏特,這種擊穿屬于()。
A.硬擊穿
B.靠背式擊穿
C.軟擊穿
D.雪崩擊穿
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1.單項(xiàng)選擇題NPN型晶體管共發(fā)射極應(yīng)用時(shí),其輸出特性曲線向上傾斜,這是以下哪個(gè)原因造成的?()
A.表面電流過(guò)小
B.穿通電流過(guò)大
C.復(fù)合電流過(guò)大
D.反向電流過(guò)大
2.單項(xiàng)選擇題NPN型晶體管共基極和共發(fā)射極應(yīng)用時(shí),關(guān)于輸出特性曲線的說(shuō)法中,錯(cuò)誤的是()。
A.共發(fā)射極電路電流放大系數(shù)比共基極大
B.共基極電路輸出阻抗比共發(fā)射極大
C.偏置電壓的減小對(duì)輸出電流的影響不同
D.輸入電流一定時(shí),兩種特性曲線的輸出電流都隨著輸出電壓的增加而變化
3.單項(xiàng)選擇題NPN型晶體管共基極應(yīng)用時(shí),當(dāng)增大反向偏置PN結(jié)電壓時(shí),其直流輸入特性曲線()。
A.向左移動(dòng)
B.向右移動(dòng)
C.基本不變
D.與正向偏置PN結(jié)電壓有關(guān)
4.單項(xiàng)選擇題兩個(gè)背靠背的PN結(jié),達(dá)到以下哪個(gè)條件時(shí),可以形成具有電流放大功能的晶體管?()
A.基區(qū)足夠薄
B.基區(qū)厚度大于1mm
C.基區(qū)厚度小于1nm
D.基區(qū)足夠?qū)?/p>
5.單項(xiàng)選擇題對(duì)晶體管使用過(guò)程中的載流子形成及電流分析過(guò)程中,共有()股微觀小電流。
A.3
B.7
C.2
D.6
最新試題
處在飽和工作區(qū)的N型襯底材料MOS管,柵極將失去對(duì)漏源電流的控制作用。
題型:判斷題
絕緣層材料質(zhì)量影響MOS管的閾值電壓。
題型:判斷題
理想的MOS管,柵極加上偏壓之后,溝道表面將產(chǎn)生一定厚度的耗盡層。
題型:判斷題
半導(dǎo)體襯底材料與柵極材料之間的逸出功差變化范圍較小。
題型:判斷題
MOS管閾值電壓的單位是eV。
題型:判斷題
柵極材料與半導(dǎo)體材料的功函數(shù)差會(huì)因半導(dǎo)體材料的摻雜濃度變化而變化。
題型:判斷題
半導(dǎo)體的主要特征有()()()和()。
題型:填空題
N型襯底的MOS管的伏安特性曲線可以分為可調(diào)電阻區(qū),飽和區(qū)和擊穿區(qū)。
題型:判斷題
MOS管可以分為4類型,其中p溝增強(qiáng)型MOS的載流子主要是電子。
題型:判斷題
實(shí)際的MOS管,絕緣層相當(dāng)于一個(gè)電阻無(wú)限大的絕緣體,其中沒(méi)有任何雜質(zhì)和缺陷。
題型:判斷題