A.晶體管噪音最大時對應(yīng)的頻率
B.電流不放大時對應(yīng)的頻率
C.電壓放大倍數(shù)為1時對應(yīng)的頻率
D.功率放大倍數(shù)為1時對應(yīng)的頻率
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A.共基極電流放大倍數(shù)為1時所對應(yīng)的頻率
B.共集電極電流放大倍數(shù)為1時所對應(yīng)的頻率
C.共發(fā)射極電流放大倍數(shù)為1時所對應(yīng)的頻率
D.共發(fā)射極電流放大倍數(shù)為0.707時所對應(yīng)的頻率
A.下降
B.不變
C.提高
D.與噪音頻率有關(guān)
A.1
B.2
C.4
D.3
A.由于外加電壓的變化引起的基區(qū)寬度變化的現(xiàn)象
B.基區(qū)寬度隨著摻雜濃度增大而加寬的現(xiàn)象
C.基區(qū)厚度對發(fā)射結(jié)和集電結(jié)的影響的現(xiàn)象
D.基區(qū)厚度會變化的現(xiàn)象
A.發(fā)射結(jié)的發(fā)射功率
B.基區(qū)電流與發(fā)射區(qū)電流之比
C.發(fā)射極電流與發(fā)射區(qū)電流之比
D.注入基區(qū)的電子電流與發(fā)射極總電流之比
最新試題
第一塊集成電路發(fā)明于()年。
晶體管的全部應(yīng)用模式中,共有()種放大倍數(shù)。
雙極型晶體管內(nèi)部有()個極,()個區(qū),()個PN結(jié)。
MOS型場效應(yīng)晶體管的閾值電壓與襯底材料的摻雜濃度是有關(guān)的。
MOS管的伏安特性曲線含義是漏源電壓與漏源電流之間的關(guān)系曲線。
絕緣層材料質(zhì)量影響MOS管的閾值電壓。
實際的MOS管,絕緣層相當于一個電阻無限大的絕緣體,其中沒有任何雜質(zhì)和缺陷。
P溝增強型MOS管存在著一個柵極截止電壓。
半導(dǎo)體的主要特征有()()()和()。
半導(dǎo)體襯底材料與柵極材料之間的逸出功差變化范圍較小。