單項(xiàng)選擇題雙極型晶體管的基區(qū)寬度效應(yīng)的含義是()。
A.由于外加電壓的變化引起的基區(qū)寬度變化的現(xiàn)象
B.基區(qū)寬度隨著摻雜濃度增大而加寬的現(xiàn)象
C.基區(qū)厚度對(duì)發(fā)射結(jié)和集電結(jié)的影響的現(xiàn)象
D.基區(qū)厚度會(huì)變化的現(xiàn)象
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1.單項(xiàng)選擇題發(fā)射結(jié)的發(fā)射效率的涵義是()。
A.發(fā)射結(jié)的發(fā)射功率
B.基區(qū)電流與發(fā)射區(qū)電流之比
C.發(fā)射極電流與發(fā)射區(qū)電流之比
D.注入基區(qū)的電子電流與發(fā)射極總電流之比
2.單項(xiàng)選擇題硅基pn結(jié)的正向?qū)妷捍蟾艛?shù)值是()。
A.0.1V
B.0.9V
C.2.5v
D.0.5V
3.單項(xiàng)選擇題pn結(jié)正向偏置時(shí),空間電荷區(qū)寬度()。
A.變窄
B.不變
C.變寬
D.消失
4.單項(xiàng)選擇題pn結(jié)正向偏置時(shí),理論上載流子濃度梯度最大的位置位于()。
A.p區(qū)
B.p區(qū)和n區(qū)的邊界
C.n區(qū)
D.pn結(jié)的界面上
5.單項(xiàng)選擇題平衡狀態(tài)的pn結(jié),其空間電荷區(qū)的載流子濃度()。
A.突變
B.逐漸變化
C.為零
D.與p區(qū)和n區(qū)相同
最新試題
晶體管正常使用過(guò)程中,處于正偏的PN結(jié)是()結(jié),處于反偏的PN結(jié)是()結(jié)。
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MOS管可以分為4類(lèi)型,其中p溝增強(qiáng)型MOS的載流子主要是電子。
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第一塊集成電路發(fā)明于()年。
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處于飽和工作區(qū)的n溝耗盡型MOS管,漏極將失去對(duì)溝道電流的控制能力。
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1947年,()等人制造了第一個(gè)晶體管。
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MOS管的閾值電壓與絕緣柵層的雜質(zhì)濃度無(wú)關(guān)。
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