MOS型場效應晶體管的閾值電壓與襯底材料的摻雜濃度是有關的。

柵極材料與半導體材料的功函數(shù)差會因半導體材料的摻雜濃度變化而變化。

理想的MOS管其柵極電壓只會落在絕緣層和半導體襯底表面層上，柵極分壓占比小于50%。

半導體具有的負的溫度系數(shù)的發(fā)現(xiàn)年份是（）年。

1947年，（）等人制造了第一個晶體管。

P型襯底的MOS管的伏安特性曲線可以分為可調(diào)電阻區(qū)，飽和區(qū)和擊穿區(qū)。

理想的MOS管，柵極加上偏壓之后，溝道表面將產(chǎn)生一定厚度的耗盡層。

第一塊集成電路發(fā)明于（）年。

晶體管的全部應用模式中，共有（）種放大倍數(shù)。

雙極型晶體管內(nèi)部有（）個極，（）個區(qū)，（）個PN結。