問(wèn)答題什么是CVD中的氣缺現(xiàn)象?解決氣缺現(xiàn)象的措施?
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
1.問(wèn)答題
簡(jiǎn)述臺(tái)階覆蓋與接觸孔口。
2.問(wèn)答題熱蒸發(fā)制備薄膜的過(guò)程有哪些?
4.問(wèn)答題APCVD、LPCVD、PECVD和HDPCVD中文名稱(chēng)分別是?
5.問(wèn)答題離子注入后為什么要退火?
最新試題
絕緣層材料質(zhì)量影響MOS管的閾值電壓。
題型:判斷題
半導(dǎo)體的主要特征有()()()和()。
題型:填空題
P溝增強(qiáng)型MOS管存在著一個(gè)柵極截止電壓。
題型:判斷題
MOS管的轉(zhuǎn)移特性曲線指的是漏源電壓與漏源電流之間的關(guān)系曲線。
題型:判斷題
實(shí)際的MOS管,絕緣層相當(dāng)于一個(gè)電阻無(wú)限大的絕緣體,其中沒(méi)有任何雜質(zhì)和缺陷。
題型:判斷題
晶體管正常使用過(guò)程中,處于正偏的PN結(jié)是()結(jié),處于反偏的PN結(jié)是()結(jié)。
題型:填空題
1947年,()等人制造了第一個(gè)晶體管。
題型:填空題
當(dāng)p溝耗盡型MOS管處于飽和工作區(qū)時(shí),漏極將失去對(duì)漏源電流的控制能力。
題型:判斷題
理想的MOS管,柵極加上偏壓之后,溝道表面將產(chǎn)生一定厚度的耗盡層。
題型:判斷題
MOS型場(chǎng)效應(yīng)晶體管的閾值電壓與襯底材料的摻雜濃度是有關(guān)的。
題型:判斷題