單項選擇題半導(dǎo)體的載流子擴散系數(shù)大小決定于其()。
A.復(fù)合機構(gòu)
B.能帶結(jié)構(gòu)
C.晶體結(jié)構(gòu)
D.散射機構(gòu)
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1.單項選擇題Si中摻金的工藝主要用于制造()器件。
A.高可靠性
B.高頻
C.大功率
D.高電壓
2.單項選擇題若某半導(dǎo)體導(dǎo)帶中電子出現(xiàn)幾率為零,則此半導(dǎo)體必定()。
A.處于絕對零度
B.不含任何雜質(zhì)
C.不含任何缺陷
D.不含施主
3.單項選擇題II-VI族化合物中的M空位Vm是()。
A.點陣中的金屬原子間隙
B.一種在禁帶中引入施主的點缺陷
C.點陣中的點陣中的金屬原子空位
D.一種在禁帶中引入受主的位錯
4.單項選擇題電子在晶體中的共有化運動是指()。
A.電子在晶體中各處出現(xiàn)的幾率相同
B.電子在晶體原胞中各點出現(xiàn)的幾率相同
C.電子在晶體各原胞對應(yīng)點出現(xiàn)的幾率相同
D.電子在晶體各原胞對應(yīng)點的相位相同
5.單項選擇題最小電導(dǎo)率出現(xiàn)在()型半導(dǎo)體。
A.n
B.p
C.本征
最新試題
理想的MOS管,柵極加上偏壓之后,溝道表面將產(chǎn)生一定厚度的耗盡層。
題型:判斷題
半導(dǎo)體的主要特征有()()()和()。
題型:填空題
雙極型晶體管內(nèi)部有()個極,()個區(qū),()個PN結(jié)。
題型:填空題
MOS型場效應(yīng)晶體管的閾值電壓與襯底材料的摻雜濃度是有關(guān)的。
題型:判斷題
MOS的輸出特性曲線中,給定的漏源電壓下漏源電流隨著柵極電壓的增大而增加。
題型:判斷題
處于飽和工作區(qū)的n溝耗盡型MOS管,漏極將失去對溝道電流的控制能力。
題型:判斷題
第一塊集成電路發(fā)明于()年。
題型:填空題
“合金型晶體管”,“平面型晶體管”和“外延型晶體管”這三種晶體管中,目前生產(chǎn)最主要的一種是()。
題型:填空題
處在飽和工作區(qū)的N型襯底材料MOS管,柵極將失去對漏源電流的控制作用。
題型:判斷題
晶體管的全部應(yīng)用模式中,共有()種放大倍數(shù)。
題型:填空題