N型襯底的MOS管的伏安特性曲線可以分為可調電阻區(qū)，飽和區(qū)和擊穿區(qū)。

MOS管的閾值電壓與絕緣柵層的雜質濃度無關。

氧化鋁（Al2O3）的介電常數(shù)一般低于氮化硅（Si3N4）的介電常數(shù)。

P溝增強型MOS管存在著一個柵極截止電壓。

1947年，（）等人制造了第一個晶體管。

雙極型晶體管使用中，電流最大的極是（），電流最小的極是（）。

P型襯底的MOS管的伏安特性曲線可以分為可調電阻區(qū)，飽和區(qū)和擊穿區(qū)。

理想的MOS管其柵極電壓只會落在絕緣層和半導體襯底表面層上，柵極分壓占比小于50%。

MOS型場效應晶體管的閾值電壓與襯底材料的摻雜濃度是有關的。

MOS管閾值電壓的單位是eV。