處在飽和工作區(qū)的N型襯底材料MOS管，柵極將失去對(duì)漏源電流的控制作用。

雙極型晶體管內(nèi)部有（）個(gè)極，（）個(gè)區(qū)，（）個(gè)PN結(jié)。

柵極材料與半導(dǎo)體材料的功函數(shù)差會(huì)因半導(dǎo)體材料的摻雜濃度變化而變化。

MOS管閾值電壓的單位是eV。

MOS管可以分為4類型，其中p溝增強(qiáng)型MOS的載流子主要是電子。

第一塊集成電路發(fā)明于（）年。

p型襯底材料的MOS管，其半導(dǎo)體的摻雜濃度增大，閾值電壓隨之增大。

理想的MOS管，柵極加上偏壓之后，溝道表面將產(chǎn)生一定厚度的耗盡層。

1947年，（）等人制造了第一個(gè)晶體管。

絕緣層材料質(zhì)量影響MOS管的閾值電壓。