單項(xiàng)選擇題下列哪一項(xiàng)不是天然水的三大雜質(zhì)?()
A.懸浮物質(zhì)
B.揮發(fā)物質(zhì)
C.膠體物質(zhì)
D.溶解物質(zhì)
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1.單項(xiàng)選擇題失效表明離子交換樹脂可供交換的()大為減少。
A.Cl¯
B.NA
C.H﹢和OH¯
D.CA
2.單項(xiàng)選擇題懸浮區(qū)熔法檢驗(yàn)多晶硅中基磷含量時,采用快速區(qū)熔法的工藝時,第一次區(qū)熔時,第一區(qū)熔區(qū)停留揮發(fā)時間()左右。
A.3min
B.5min
C.7min
D.10min
3.單項(xiàng)選擇題光圖定向法結(jié)果直觀,操作(),誤差()。
A.簡單較大
B.復(fù)雜較大
C.簡單較小
D.復(fù)雜較小
4.單項(xiàng)選擇題()是影響硅器件成品率的一個重要因素,也是影響器件性能的穩(wěn)定性和可靠性的重要因素。
A.點(diǎn)缺陷
B.線缺陷
C.面缺陷
D.微缺陷
5.單項(xiàng)選擇題用冷熱探筆法測量()半導(dǎo)體時,冷端帶正電,熱端帶負(fù)電。
A.P型
B.N
C.PN型
D.以上皆不是
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MOS型場效應(yīng)晶體管的閾值電壓與襯底材料的摻雜濃度是有關(guān)的。
題型:判斷題
絕緣層材料的厚度會對MOS管的閾值電壓產(chǎn)生影響。
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氧化鋁(Al2O3)的介電常數(shù)一般低于氮化硅(Si3N4)的介電常數(shù)。
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雙極型晶體管使用中,電流最大的極是(),電流最小的極是()。
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“合金型晶體管”,“平面型晶體管”和“外延型晶體管”這三種晶體管中,目前生產(chǎn)最主要的一種是()。
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雙極型晶體管內(nèi)部有()個極,()個區(qū),()個PN結(jié)。
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半導(dǎo)體具有的負(fù)的溫度系數(shù)的發(fā)現(xiàn)年份是()年。
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P型襯底的MOS管的伏安特性曲線可以分為可調(diào)電阻區(qū),飽和區(qū)和擊穿區(qū)。
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理想的MOS管,柵極加上偏壓之后,溝道表面將產(chǎn)生一定厚度的耗盡層。
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N溝增強(qiáng)型MOS管襯底材料是N型摻雜半導(dǎo)體。
題型:判斷題