多項(xiàng)選擇題快凍法砼抗凍試驗(yàn)試件的形狀,不正確的有()。

A、立方體
B、棱柱體
C、圓柱體
D、圓球體


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你可能感興趣的試題

1.多項(xiàng)選擇題慢凍法砼抗凍試驗(yàn)試件的形狀,不正確的有()。

A、立方體
B、棱柱體
C、圓柱體
D、圓球體

2.多項(xiàng)選擇題快凍法砼抗凍試驗(yàn)試件的凍融介質(zhì),不正確的有()。

A、水凍水融
B、氣凍氣融
C、氣凍水融
D、水凍氣融

3.多項(xiàng)選擇題慢凍法砼抗凍試驗(yàn)試件的凍融介質(zhì),不正確的有()。

A、水凍水融
B、氣凍氣融
C、氣凍水融
D、水凍氣融

5.多項(xiàng)選擇題對(duì)100×100×400mm的砼抗折非標(biāo)準(zhǔn)試件,其強(qiáng)度值尺寸換算系數(shù)正確的有()。

A、小于C60強(qiáng)度等級(jí)時(shí)為0.95
B、小于C60強(qiáng)度等級(jí)時(shí)為1.05
C、小于C60強(qiáng)度等級(jí)時(shí)為0.85
D、不小于C60強(qiáng)度等級(jí)時(shí)應(yīng)由試驗(yàn)確定

最新試題

載流子的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生擴(kuò)散電流,漂移運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生()電流。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

鑄造多晶硅中的氧主要來(lái)源不包括()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

影響單晶內(nèi)雜質(zhì)數(shù)量及分布的主要因素是()①原材料中雜質(zhì)的種類和含量;②雜質(zhì)的分凝效應(yīng);③雜質(zhì)的蒸發(fā)效應(yīng);④生長(zhǎng)過(guò)程中坩堝或系統(tǒng)內(nèi)雜質(zhì)的沾污;⑤加入雜質(zhì)量;

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

用能量()禁帶寬度的光子照射p-n結(jié)會(huì)產(chǎn)生光生伏特效應(yīng)。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

下列哪個(gè)不是單晶常用的晶向()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

那個(gè)不是影響直拉單晶硅的電阻率均勻性的因素()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

對(duì)于大注入下的直接復(fù)合,非平衡載流子的壽命不再是個(gè)常數(shù),它與()。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

一塊半導(dǎo)體壽命τ=15µs,光照在材料中會(huì)產(chǎn)生非平衡載流子,光照突然停止30µs后,其中非平衡載流子將衰減到原來(lái)的()。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

改良西門(mén)子法的顯著特點(diǎn)不包括()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

PN結(jié)的基本特性是()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題