A.制作腭皺符合生理要求
B.制作腭皺有利于發(fā)音和增加真實(shí)感
C.腭皺可采取典型腭皺模型復(fù)制
D.腭皺可用雕刻成形和滴蠟成形法制取
E.腭皺處凸凹不平,不易拋光,注意不能粗糙
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A.頰側(cè)翼緣區(qū)
B.下頜舌骨嵴
C.上頜硬區(qū)
D.上頜結(jié)節(jié)區(qū)
E.上唇系帶區(qū)
A.頰側(cè)翼緣區(qū)
B.遠(yuǎn)中頰角區(qū)
C.上頜前弓區(qū)
D.上頜結(jié)節(jié)區(qū)
E.上頜系帶區(qū)
A.上頜硬區(qū)
B.磨牙后墊
C.翼上頜切跡
D.下頜遠(yuǎn)中頰角區(qū)
E.蠟型的邊緣
A.上頜基托唇側(cè)為基托邊緣非抗力區(qū),應(yīng)盡量延長(zhǎng)
B.頰側(cè)基托邊緣伸至黏膜反折處,后緣蓋過(guò)上頜結(jié)節(jié)1/3~1/2
C.上頜基托的腭側(cè)后緣止于兩側(cè)翼上頜切跡與腭小凹連線后約2mm
D.下頜基托在頰側(cè)翼緣區(qū)可充分延伸
E.下頜基托在遠(yuǎn)中頰角區(qū)可充分延伸
A.金-塑交界面受應(yīng)力作用較小
B.內(nèi)外階臺(tái)應(yīng)有適當(dāng)?shù)腻e(cuò)位
C.內(nèi)外階臺(tái)設(shè)置的位置應(yīng)首先保證支架的強(qiáng)度
D.內(nèi)外階臺(tái)的角度應(yīng)小于90°
E.內(nèi)外階臺(tái)的最佳角度為75°
最新試題
內(nèi)外終止線的角度可以是()
鑄造件可承受極高的應(yīng)力,并有極薄的橫斷面,適用于活動(dòng)修復(fù)支架、卡環(huán)、基托制作的是()
瓊脂熔化后,需冷卻到()才可以開始制取印模。
II型卡環(huán)()作用好,()作用差。
III型觀測(cè)線在設(shè)計(jì)卡環(huán)時(shí)采用()卡環(huán)。
上牙合架的注意事項(xiàng)不包括()
關(guān)于調(diào)節(jié)倒凹法下列說(shuō)法錯(cuò)誤的是()
I型觀測(cè)線在設(shè)計(jì)卡環(huán)時(shí)采用()卡環(huán)。
按照鑄造支架表面形態(tài)分型的是()
上下頜后牙覆蓋小,或由于缺牙后軟組織向內(nèi)凹陷,會(huì)造成()