對(duì)于氣體分餾裝置，在塔底溫度穩(wěn)定的情況下，一般塔頂壓力的控制方法是采用調(diào)節(jié)冷卻器的（）溫度和調(diào)節(jié)回流量的方法來調(diào)節(jié)塔頂?shù)膲毫Α?/p>

“水擊”消除方法根本指導(dǎo)思想是（）

碳四裝置反應(yīng)器原料來自于（）

為了防止離心水泵入口發(fā)生汽蝕，葉輪入口處壓力（）汽化壓力。

碳四裝置再生過程中需要（）介質(zhì)進(jìn)行再生操作。

脫乙烷塔循環(huán)建立時(shí)，塔頂冷卻器循環(huán)水開的過大，會(huì)出現(xiàn)（）現(xiàn)象。

若脫乙烷塔操作不好，將碳二帶至丙烯塔，丙烯塔在開車建立循環(huán)過程中會(huì)出現(xiàn)（）現(xiàn)象。

氣體分餾裝置處理量頻繁變化時(shí)，實(shí)際是氣體分餾裝置的（）頻繁被打破。

氣分裝置脫乙烷塔塔頂溫高，是由于（）引起。

液化氣引進(jìn)塔后，趕氮?dú)饨Y(jié)束，塔底通熱源以后，會(huì)發(fā)生塔底液面急速下降，此時(shí)這些液態(tài)烴原料到（）去了。