碳四裝置回流罐頂去低壓調(diào)節(jié)閥是（）

換熱器中需要冷卻降溫的介質(zhì)走向一般為（）

“水擊”消除方法根本指導(dǎo)思想是（）

碳四裝置催化劑再生前需要對(duì)待再生反應(yīng)系統(tǒng)做（）

引起脫異丁烷塔底溫高的原因，以下正確的是（）

脫乙烷塔循環(huán)建立時(shí)，塔頂冷卻器循環(huán)水開的過大，會(huì)出現(xiàn)（）現(xiàn)象。

氣體分餾裝置處理量頻繁變化時(shí)，實(shí)際是氣體分餾裝置的（）頻繁被打破。

氣分裝置脫乙烷塔塔頂溫高，是由于（）引起。

碳四裂解裝置加熱反應(yīng)系統(tǒng)結(jié)焦危害是（）

對(duì)于氣體分餾裝置，在塔底溫度穩(wěn)定的情況下，一般塔頂壓力的控制方法是采用調(diào)節(jié)冷卻器的（）溫度和調(diào)節(jié)回流量的方法來調(diào)節(jié)塔頂?shù)膲毫Α?/p>