新置的Ir192γ射線源，其活度為40Ci，現(xiàn)今時(shí)隔300天，已知，Ir192γ射線源的半衰期為75天。求該源現(xiàn)在的活度？該源新置時(shí)，對(duì)某工件進(jìn)行射線照相的曝光時(shí)間為4min，若所有條件不變，現(xiàn)今應(yīng)曝光多少分鐘？

什么是實(shí)際焦點(diǎn)和有效焦點(diǎn)？x射線機(jī)說明書給出的是哪個(gè)焦點(diǎn)？焦點(diǎn)尺寸如何計(jì)算？

有一個(gè)變量對(duì)渦流和磁場狀態(tài)的變化發(fā)生影響，線圈的輸出信號(hào)實(shí)際上是由這個(gè)變量產(chǎn)生的。這個(gè)變量是（）。

簡述滲透探傷方法的選擇原則。

下面哪種是圍繞線圈在一個(gè)均勻的導(dǎo)體中感應(yīng)出的渦流的一個(gè)性質(zhì)（）。

圖所示的標(biāo)準(zhǔn)試件可用來測定（）。

交流電流在試驗(yàn)物體中產(chǎn)生渦流。矢量Hs代表試件中的二次交變磁場，只有具有哪種作用渦流檢驗(yàn)才有意義（）。

JB4730-94標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定非熒光磁粉，每100毫升磁懸液沉淀體積為（）。

下面哪種因素會(huì)改變趨膚效應(yīng)（）。

當(dāng)激勵(lì)電壓加于一次繞組時(shí)，只有磁通量是同相的，且二次磁通量較小。當(dāng)試驗(yàn)物體插入該線圈時(shí)，將發(fā)生什么情況（）。