問答題寫出簡單P點陣，體心I點陣，面心F點陣的系統(tǒng)消光規(guī)律以及他們第一條衍射線的干涉指數(shù)。
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下列哪種因素不是影響紅外光譜譜峰位置的影響因素（）
題型：單項選擇題
產(chǎn)生俄歇電子深度范圍為表層以下（）
題型：單項選擇題
俄歇過程和熒光過程是兩個競爭的過程。
題型：判斷題
分子的振動或轉(zhuǎn)動能夠吸收輻射光子能量，相應(yīng)的光譜成為吸收光譜。
題型：判斷題
改變激發(fā)源的能量，俄歇電子譜峰的位置不動。
題型：判斷題
對于化學(xué)價態(tài)相同的原子，俄歇化學(xué)位移的差別主要和原子間的電負(fù)性差有關(guān)。
題型：判斷題
X射線光電子能譜譜圖中可能存在的譜峰有（）
題型：多項選擇題
對聚苯乙烯表面的氧化狀態(tài)進行分析，可以采取下面哪些分析手段？（）
題型：單項選擇題
材料分析的基本原理是指測量信號與材料成分、結(jié)構(gòu)等的特征關(guān)系。
題型：判斷題
表面與界面成分分析的手段有（）
題型：多項選擇題