A、小
B、大
C、無(wú)變化
D、以上全對(duì)
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A、米吐?tīng)?br />
B、溴化鉀
C、亞硫酸鈉
D、對(duì)苯二酚
A、亞硫酸鈉
B、醋酸
C、海波
D、明礬
A、海波,無(wú)水亞硫酸鈉,醋酸,硼酸,溴化鉀
B、海波,無(wú)水亞硫酸鈉,醋酸,硼酸,明礬
C、米吐?tīng)枺瑹o(wú)水亞硫酸鈉,醋酸,硼酸,明礬
D、對(duì)苯二酚,無(wú)水碳酸鈉,醋酸,硼酸,明礬
A、速度
B、管電流
C、管電壓
D、焦距
A、速度不同
B、穿透能力不同
C、產(chǎn)生機(jī)理不同
D、以上都是
最新試題
對(duì)檢測(cè)儀的時(shí)間基線進(jìn)行校正后,缺陷的埋藏深度可從熒光屏的()上讀出。
缺陷檢測(cè)即通常所說(shuō)的渦流探傷主要影響因素包括()、電導(dǎo)率、磁導(dǎo)率、邊條效應(yīng)、提離效應(yīng)等。
當(dāng)缺陷面積大于聲束截面時(shí),如果聲束軸線移到缺陷邊緣,缺陷波高約為聲束軸線在缺陷中部時(shí)波高的()
特性是指實(shí)體所特有的性質(zhì),它反映子實(shí)體滿足需要的()
當(dāng)波束中心線與缺陷面()且回波最()時(shí),移動(dòng)探頭使波束中心(),回波高度當(dāng)隨之下降。
在遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū),當(dāng)缺陷比聲束截面小時(shí),缺陷波高與缺陷面積成()
對(duì)于接觸法只須將能使缺陷落在其遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū)內(nèi)的縱波直探頭在試件表面移動(dòng),即可獲得缺陷的()所在的位置,從而定出缺陷的平面位置。
掃描儀器的掃查的間距通常根據(jù)探頭的最小聲束(),保證兩次掃查之間有一定比例的覆蓋。
對(duì)于圓盤(pán)形試件,常沿()在圓面上進(jìn)行掃查。
隨著渦流檢側(cè)儀器制造技術(shù)的發(fā)展,出現(xiàn)了多種型號(hào)的同時(shí)具備探傷、電導(dǎo)率測(cè)量()測(cè)量功能的通用型儀器。