A．缺陷方向與磁力線平行時(shí)，漏磁場(chǎng)最大
B．漏磁場(chǎng)的大小與工件的磁化程度無(wú)關(guān)
C．漏磁場(chǎng)的大小與缺陷的深度和寬度的比值有關(guān)
D．工件表層下，缺陷所產(chǎn)生的漏磁場(chǎng)，隨缺陷的埋藏深度增加而增大
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A、它與試件上的磁通密度有關(guān)
B、它與缺陷的高度有關(guān)
C、磁化方向與缺陷垂直時(shí)漏磁通最大
D、以上都對(duì)
A、磁化強(qiáng)度為一定時(shí)，缺陷高度小于1mm的形狀相似的表面缺陷，其漏磁通與缺陷高度無(wú)關(guān)
B、缺陷離試件表面越近，缺陷漏磁通越小
C、在磁化狀態(tài)、缺陷種類和大小為一定時(shí)，缺陷漏磁通密度受缺陷方向影響
D、交流磁化時(shí)，近表面缺陷的漏磁通比直流磁化時(shí)要小
E、當(dāng)磁化強(qiáng)度、缺陷種類和大小為一定時(shí)，缺陷處的漏磁通密度受磁化方向的影響
F、c，d和e都對(duì)
A、摩擦力
B、矯頑力
C、漏磁場(chǎng)
D、靜電場(chǎng)
A、10條磁力線（1韋伯）
B、伴隨著一個(gè)磁場(chǎng)的磁力線條數(shù)
C、穿過(guò)與磁通平行的單位面積的磁力線條數(shù)
D、穿過(guò)與磁通垂直的單位面積的磁力線條數(shù)
A、濕法檢驗(yàn)時(shí)，在液體中懸浮磁粉的方法
B、連續(xù)法時(shí)使用的磁化力
C、表示去除材料中的剩余磁性需要的反向磁化力
D、不是用于磁粉探傷的術(shù)語(yǔ)
最新試題
剩磁法不能用于干法檢測(cè)。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：磁粉檢測(cè)的工件表面不得有油脂、鐵銹、氧化皮或其它粘附磁粉的物質(zhì)。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：直流退磁法是將需退磁工件放入直流磁場(chǎng)中，逐漸減小電流至零。
C型靈敏度試片與A型靈敏度試片使用方法相同，只是C型靈敏度試片能用于狹小部位。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的水?dāng)嘣囼?yàn)，主要是用來(lái)檢驗(yàn)水磁懸液對(duì)被檢表面的潤(rùn)濕性能，只有出現(xiàn)裸露的“水?dāng)唷北砻妫趴梢蚤_(kāi)始磁粉檢測(cè)。
在工件內(nèi)部的剩磁，周向磁化要比縱向磁化大的多。
干磁粉可采用手動(dòng)或電動(dòng)噴粉器以及其他合適的工具來(lái)施加，施加時(shí)磁粉應(yīng)厚些撒在工件表面上。
用連續(xù)法檢測(cè)時(shí)，檢測(cè)靈敏度不僅與被檢工件表面磁場(chǎng)強(qiáng)度有關(guān)，還受被檢工件材質(zhì)的影響。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：當(dāng)辯認(rèn)細(xì)小缺陷磁痕時(shí)應(yīng)用2～10倍放大鏡進(jìn)行觀察。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：兩條或兩條以上缺陷磁痕在同一直線上且間距不大于2mm時(shí)，按一條磁痕處理，其長(zhǎng)度為兩條磁痕之和加間距。