在光電子能譜中，影響化學(xué)位移的因素有（）

材料分析的基本原理是指測量信號與材料成分、結(jié)構(gòu)等的特征關(guān)系。

紅外光譜中官能團區(qū)為（）

光電子能譜的空間分辨率高于俄歇電子的空間分辨率。

物相分析是指利用衍射的方法探測晶格類型和晶胞常數(shù)，確定物質(zhì)的相結(jié)構(gòu)，下面哪一項不是主要的物相分析手段？（）

由布拉格方程變形而引入了干涉指數(shù)，對其描述正確的是（）。

影響X射線連續(xù)譜總強度的因素包括（）。

產(chǎn)生俄歇電子深度范圍為表層以下（）

表面與界面成分分析的手段有（）

俄歇過程和熒光過程是兩個競爭的過程。