A.與頜力大小有關(guān)
B.與咀嚼部位有關(guān)
C.與咀嚼習(xí)慣有關(guān)
D.與失牙原因有關(guān)
E.與患者健康狀況有關(guān)
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A.蠟基托過短
B.蠟基托無吸附力
C.蠟堤過高
D.蠟堤過低
E.蠟基托接觸不均勻
A.上頜向前下頜向后
B.下頜向前上頜向后
C.上頜弓大于下頜弓
D.下頜弓大于上頜弓
E.上頜弓變窄而下頜弓變大變高
A.精確反映口周肌肉功能活動(dòng)時(shí)的位置和形態(tài)
B.使口腔組織受壓均勻
C.使印模邊緣圓滑
D.看清解剖標(biāo)志
E.邊緣及粘膜轉(zhuǎn)折處清晰
A.定位平面記錄
B.下頜后退記錄
C.面下1/3高度的記錄
D.垂直距離和下頜前伸頜記錄
E.垂直距離和正中關(guān)系記錄
最新試題
患者，張某，前來就診要求行下頜全口種植固定義齒修復(fù)，口內(nèi)檢查后以下要求不符合適應(yīng)癥的是（）
下列關(guān)于自攻型與助攻型微螺釘種植支抗植入術(shù)的敘述中，正確的是（）
患者，男，23歲。42牙缺失，行種植修復(fù)。備孔過程中造成鄰牙損傷。下列關(guān)于鄰牙損傷的結(jié)果說法不正確的是（）
以下適合對(duì)牙槽嵴3~5mm厚度，唇側(cè)無倒凹的上頜前牙種植位點(diǎn)進(jìn)行水平骨增量的技術(shù)包括（）
CBCT檢查見患者患側(cè)上頜竇擴(kuò)張，以下關(guān)于上頜竇擴(kuò)張的說法錯(cuò)誤的是（）
在為患者進(jìn)行口內(nèi)掃描獲取包含種植體三維位置、鄰牙、咬合等數(shù)字化信息時(shí)，需要用到的設(shè)備或裝置包括（）
備孔方向偏斜的原因有（）
現(xiàn)在臨床所使用的主流種植體主要特征為（）
患者，男，51歲。右下第一、第二磨牙缺失2年余。今來診，要求種植修復(fù)?；颊邿o全身系統(tǒng)疾病及藥物過敏史。無吸煙習(xí)慣。治療前為患者制取研究模型。灌注石膏模型時(shí)，下列做法不正確的是（）
以下不是用于種植體表面改性的方法的是（）