A.需濃溶液多
B.濃淡各半
C.淡溶液多
D.無(wú)法配制
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A.努塞爾特準(zhǔn)數(shù)Nu
B.普蘭特準(zhǔn)數(shù)Pr
C.雷諾準(zhǔn)數(shù)Re
D.格拉斯霍夫準(zhǔn)數(shù)Gr
A.不變
B.增加
C.減小
D.不確定
A.活性炭
B.硅膠
C.活性氧化鋁
D.分子篩
A.O℃
B.25℃
C.環(huán)境溫度
D.可選取任何溫度,但在衡算系統(tǒng)內(nèi)應(yīng)統(tǒng)一
A.確定工藝方案,進(jìn)行工藝計(jì)算,提出主流程工藝流程圖(PFD)
B.提出必需的輔助系統(tǒng)和公用系統(tǒng)方案,并進(jìn)行初步的計(jì)算:提出初步的公用工程流程圖(UFD)
C.提出污染物排放及治理措施
D.負(fù)責(zé)裝置內(nèi)裝置正常安全運(yùn)行的安全系統(tǒng)設(shè)計(jì)
最新試題
可以利用緯圓法求解立體表面點(diǎn)的幾何體有()。
平面截切體截交線的求解方法有()。
標(biāo)注剖切位置時(shí),采用()短劃來(lái)表示。
相貫線的投影為非圓曲線時(shí),其特殊點(diǎn)可以是()。
化工設(shè)備上的接管和附件通常采用()表達(dá)。
有回轉(zhuǎn)軸的機(jī)件適合采用()進(jìn)行剖切。
臥式設(shè)備應(yīng)采用()支座。
()的機(jī)件適合采用半剖視圖表達(dá)。
點(diǎn)A、B為W面上的重影點(diǎn),且點(diǎn)A在點(diǎn)B之右,其在W面上可寫作()。
全剖視圖可以采用()剖切面進(jìn)行剖切。