水擊一般不在（）相接觸時發(fā)生。

在再生風量不變的情況下，待生劑中硫含量下降，（）

再生器內微量水的來源是（）

S Zorb裝置循環(huán)氫管線生成銨鹽后，至混氫點循環(huán)氫流量減小，原料換熱器壓降（）

還原器中通還原氣的目的是（）

S-Zorb裝置再生器結構屬于（）

抗暴指數(shù)是原料和產品的馬達法辛烷值和研究法辛烷值損失之和的（）

循環(huán)氫壓縮機吸氣閥發(fā)生故障，導致（）

S-zorb裝置停工過程中，降溫速度不可太快，因為臨氫設備具有（）

吸附劑結塊的結果不包括（）