A.照射野越大,影響越大
B.電子束射程越短,影響越大
C.低能時(shí),影響較大
D.當(dāng)照射野的直徑大于電子束射程的1/2時(shí),影響較小
E.當(dāng)照射野的直徑大于電子束射程的2/3時(shí),影響較大
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A.原射線的離軸比
B.射野的邊界因子
C.射野的對稱性
D.射野的平坦度
E.射野的均質(zhì)性
A.一維物理楔形板
B.動態(tài)楔形板
C.多葉準(zhǔn)直器動態(tài)掃描
D.多葉準(zhǔn)直器靜態(tài)掃描
E.筆形束電磁掃描
A.體積較大
B.對側(cè)向散射反應(yīng)不靈敏
C.受“熱效應(yīng)”影響大
D.易受環(huán)境及溫度影響
E.受照射野大小影響
A.10
B.12
C.14
D.16
E.18
A.P90%-10%
B.P90%-20%
C.P80%-10%
D.P80%-20%
E.P95%-20%
最新試題
低LET射線的RBE值()1.0,高LET射線的RBE值()2.0。
對重離子,線性碰撞本領(lǐng)是選擇組織替代材料的首要條件。
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質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡稱分別為QA、QC。