A.參照標(biāo)準(zhǔn)是現(xiàn)有技術(shù),包括抵觸申請(qǐng) B.我國(guó)專利法對(duì)發(fā)明、實(shí)用新型、外觀設(shè)計(jì)的創(chuàng)造性要求相同 C.我國(guó)專利法未對(duì)外觀設(shè)計(jì)的創(chuàng)造性作明確的規(guī)定 D.創(chuàng)造性是我國(guó)授予發(fā)明、實(shí)用新型專利權(quán)的實(shí)質(zhì)條件之一
A.甲于2005年3月5日向日本專利行政部門提出的發(fā)明專利申請(qǐng) B.乙于2006年1月15日向中國(guó)專利行政部門提出的發(fā)明專利申請(qǐng) C.丙于2005年2月3日向中國(guó)專利行政部門提出的發(fā)明專利申請(qǐng) D.王先生的共同發(fā)明人丁于2005年5月8日向中國(guó)專利行政部門提出的發(fā)明專利申請(qǐng)
A.某外國(guó)人將其主題相同的發(fā)明專利同時(shí)向其本國(guó)和我國(guó)專利局提出申請(qǐng) B.王某向?qū)@痔岢錾暾?qǐng),國(guó)務(wù)院專利行政部門在審查時(shí)發(fā)現(xiàn)其提出申請(qǐng)前,已有同樣的技術(shù)由他人向?qū)@痔岢鲞^申請(qǐng),并記載在申請(qǐng)日以后公布的專利申請(qǐng)文件中 C.王某的在先申請(qǐng)被專利局駁回 D.王某將其專利申請(qǐng)?jiān)诒还家郧俺坊?/p>