一個(gè)是全息學(xué)的發(fā)展處于極盛時(shí)期，另一個(gè)是電子計(jì)算機(jī)控制繪圖剛開始普及。
直接用于光學(xué)干涉法在記錄物光波和參考光波疊加后形成的干涉圖樣。
最新試題
空間濾波系統(tǒng)
單頻線寬
二元掩膜
掃描莫爾
阿貝成像理論
聯(lián)合變換相關(guān)器用于指紋和漢字手寫的實(shí)時(shí)識(shí)別？
二元光學(xué)
圖像識(shí)別
信息容量
光刻