每個(gè)地貌單元應(yīng)布置勘探點(diǎn)，在地貌單元交接部位和地層變化較大的地段，勘探點(diǎn)應(yīng)（），在地形平緩地區(qū)，可按（）布置勘探點(diǎn)。

當(dāng)基礎(chǔ)持力層為基巖時(shí)，應(yīng)對(duì)巖樣進(jìn)行（）與（）狀態(tài)下的單軸抗壓強(qiáng)度試驗(yàn)，并提供極限抗壓強(qiáng)度和軟化系數(shù)。

巖溶地基的處理措施一般可采用（）、跨蓋、（）和排導(dǎo)等方法。

建/構(gòu)筑工程進(jìn)行可行性研究勘察，當(dāng)搜集資料不能滿足要求時(shí)，可進(jìn)行（）和輔以少量的勘探、測(cè)試工作?？碧近c(diǎn)間距宜為200m～400m，勘探深度應(yīng)進(jìn)入穩(wěn)定地層或（）。

對(duì)可能沿巖土界面滑動(dòng)的邊坡或涉水邊坡，后部應(yīng)（）可能滑動(dòng)的后緣邊界，前緣應(yīng)（）可能的剪出口位置。

在軟土、砂層中宜采用（）；當(dāng)使用套管護(hù)壁時(shí)，應(yīng)保持管內(nèi)水位等于或稍高于地下水位，取樣位置應(yīng)低于套管底（）孔徑距離。

巖石試樣應(yīng)填寫(xiě)（），標(biāo)明上下方向。對(duì)進(jìn)行密度、含水量試驗(yàn)的巖石試樣，采取后應(yīng)擦干凈即刻（）；試樣標(biāo)簽可采用二維碼等數(shù)字化設(shè)備自動(dòng)打印和粘貼。

巖體結(jié)構(gòu)面測(cè)量應(yīng)采用（）測(cè)定其走向、傾角和傾向。當(dāng)傾角較緩或確定有困難時(shí)，可采用（）或“V”字型法確定。

勘探深度應(yīng)穿越滑動(dòng)面進(jìn)入穩(wěn)定地層3m 以上，（）勘探深度應(yīng)穿越滑動(dòng)面進(jìn)入穩(wěn)定地層（）m以上，且滿足滑坡治理需要。

初步勘察應(yīng)搜集場(chǎng)地和周邊影響范圍的地質(zhì)、構(gòu)造、氣象和水文等相關(guān)資料，并進(jìn)行工程地質(zhì)測(cè)繪，配合少量的（）和（）。