A、多側(cè)鏈<少側(cè)鏈<無側(cè)鏈。
B、長側(cè)鏈<短側(cè)鏈。
C、多環(huán)芳烴的第一個(gè)環(huán)加氫>其它環(huán)加氫。
D、以上答案均正確。
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A、多環(huán)芳烴主要存在于高沸點(diǎn)餾分中,單環(huán)至三環(huán)芳烴主要存在于中間餾分。
B、多環(huán)芳烴主要存在于中間餾分中,單環(huán)至三環(huán)芳烴主要存在于高沸點(diǎn)餾分。
C、直餾瓦斯油含芳烴較高,催化輕循環(huán)油含芳烴較低。
D、以上表述均不正確。
A、AR>VR
B、AGO
D、HVGO
A、單環(huán)氮化物加氫活性:吡啶>吡咯>苯環(huán);單環(huán)<雙環(huán);雜環(huán)>芳環(huán);五員環(huán)>六元環(huán)。
B、單環(huán)氮化物加氫活性:吡啶>吡咯>苯環(huán);單環(huán)<雙環(huán);雜環(huán)<芳環(huán);五員環(huán)>六元環(huán)。
C、單環(huán)氮化物加氫活性:吡啶<吡咯<苯環(huán);單環(huán)<雙環(huán);雜環(huán)>芳環(huán);五員環(huán)<六元環(huán)。
D、單環(huán)氮化物加氫活性:吡啶<吡咯<苯環(huán);單環(huán)>雙環(huán);雜環(huán)>芳環(huán);五員環(huán)<六元環(huán)。
A、二硫化物主要分布在300℃以上餾分中,硫醇主要分布在中沸點(diǎn)餾分中。
B、硫醇主要分布在低沸點(diǎn)餾分中,雜環(huán)硫化物主要分布在中沸點(diǎn)以上餾分中。
C、二硫化分布110-300℃餾分中,雜環(huán)硫化物主要分布在中沸點(diǎn)餾分中。
D、硫醇主要分布在低沸點(diǎn)餾分中,雜環(huán)硫化物主要分布在中沸點(diǎn)餾分中。
A、碳原子數(shù)相同時(shí)硫醇<硫醚<噻吩;類型相同時(shí)分子量大<分子量小。
B、噻吩類:噻吩>苯并噻吩;噻吩類衍生物:取代基距硫原子位置遠(yuǎn)<取代基距硫原子位置近。
C、二苯并噻吩<苯并噻吩;噻吩類衍生物:二個(gè)取代基<無取代基。
D、碳原子數(shù)相同時(shí)硫醇>硫醚>噻吩;二苯并噻吩>苯并噻吩。
最新試題
氧化反應(yīng)需要注意的要點(diǎn)有()
分餾塔頂溫度上升,可以通過下面哪種措施解決()
對(duì)于橢圓形封頭與球形封頭的比較,下列說法錯(cuò)誤的是()
加氫裂化的機(jī)泵狀態(tài)檢測振動(dòng)值超標(biāo)振動(dòng)值為()mm/s。
催化劑預(yù)硫化過程是()
催化燃燒式傳感器的特點(diǎn)是()
筒式加熱爐的燃燒器結(jié)構(gòu)包括()
壓力容器發(fā)生事故,設(shè)備內(nèi)部介質(zhì)的外泄漏會(huì)引起()
加氫采用固定床催化工藝,在適當(dāng)?shù)臏囟取ⅲǎl件下,原料油和氫氣在催化劑的作用下進(jìn)行反應(yīng)。
加氫裂化裝置注水泵采用()