問答題加氫裝置苛刻度提高后對(duì)裝置的影響？
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1.多項(xiàng)選擇題對(duì)催化劑真正形成活性中心中毒的金屬是（）。
A、鐵、鎂、鈣、鈉
B、鎳、釩、銅、鉛、等重金屬
C、砷
D、硅
2.單項(xiàng)選擇題硅主要是由（）裝置中加注消泡劑引起的。少量硅沉積在催化劑孔口，導(dǎo)致活性下降，床層壓降上升。
A、常減壓
B、催化
C、重整
D、焦化
3.單項(xiàng)選擇題砷在催化劑床層內(nèi)會(huì)發(fā)生（），不均勻分布，沿床層軸向從上到下，依次減少。
A、平均分布
B、遷移
C、無規(guī)則分布
D、沿軸向反分布
4.單項(xiàng)選擇題加氫原料重金屬含量可通過控制（）來降低。
A、密度
B、初餾點(diǎn)
C、中沸點(diǎn)
D、95%餾出點(diǎn)或干點(diǎn)
5.單項(xiàng)選擇題鐵、鎂、鈣、鈉等金屬對(duì)催化劑的活性影響比較小，主要沉積在（）引起壓降上升，需要增加保護(hù)劑床層進(jìn)行保護(hù)。
A、中下床層
B、催化劑活性中心上
C、沿床層遷移
D、催化劑床層表面
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