單項(xiàng)選擇題新裝置開(kāi)工，裝置工藝卡片應(yīng)在（）制定完成。

A、開(kāi)工前
B、開(kāi)工過(guò)程中
C、開(kāi)工結(jié)束時(shí)
D、產(chǎn)品質(zhì)量合格后


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1.多項(xiàng)選擇題臨氫系統(tǒng)氫氣置換流程中包括的設(shè)備有（）。

A、高壓分離器
B、低壓分離分器
C、循環(huán)氫脫硫塔
D、反應(yīng)加熱爐

2.多項(xiàng)選擇題臨氫系統(tǒng)氫氣置換時(shí)，所用氫氣的分析項(xiàng)目包括（）。

A、純度
B、密度
C、含油量
D、氧含量

3.多項(xiàng)選擇題臨氫系統(tǒng)氣密前，防止高壓竄低壓的措施有（）。

A、降低氣密壓力
B、加隔離盲板
C、關(guān)閉高低壓之間的閥門(mén)
D、打開(kāi)低壓系統(tǒng)放空閥

4.單項(xiàng)選擇題臨氫系統(tǒng)氣密時(shí)，與其連接的低壓系統(tǒng)留有排放口的目的是（）。

A、檢查有無(wú)閥門(mén)內(nèi)漏
B、置換系統(tǒng)
C、貫通流程
D、防止設(shè)備超壓

5.單項(xiàng)選擇題臨氫系統(tǒng)氣密時(shí)，初始階段所用的介質(zhì)一般選擇（）。

A、凈化風(fēng)
B、氫氣
C、氮?dú)?br /> D、非凈化風(fēng)