A．提高轉(zhuǎn)化爐進(jìn)爐水蒸氣量
B．關(guān)閉轉(zhuǎn)化爐部分火嘴
C．降低轉(zhuǎn)化爐人口溫度
D．提高轉(zhuǎn)化爐爐膛負(fù)壓
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A．低毒、平均相對(duì)分子質(zhì)量大、飽和烴含量多
B．低毒、平均相對(duì)分子質(zhì)量小、不飽和烴含量多
C．低毒、平均相對(duì)分子質(zhì)量大、不飽和烴含量多
D．低毒、平均相對(duì)分子質(zhì)量小、飽和烴含量多
A．氧化鋁
B．氧化鎳
C．氧化鈣
D．氧化鎂
A．氫氣
B．干氣
C．水蒸氣
D．氮?dú)?/p>
A．變換工序
B．甲烷化工序
C．變壓吸附工序
D．吸收脫碳工序
A．轉(zhuǎn)化工序
B．甲烷化工序
C．變壓吸附上序
D．溶液脫碳工序
最新試題
當(dāng)鍋爐系統(tǒng)爐水的堿度低于規(guī)定指標(biāo)時(shí)，應(yīng)適當(dāng)減少連續(xù)排污量，相反，當(dāng)鍋爐系統(tǒng)爐水的堿度高于規(guī)定指標(biāo)時(shí)，應(yīng)適當(dāng)增加連續(xù)排污量。
鍋爐汽包液位調(diào)節(jié)采用三沖量控制主要是為了防止虛假液位的發(fā)生。
分散控制系統(tǒng)（DCS）一般由過程輸入/輸出接口單元、過程控制單元CRT操作站、高速數(shù)據(jù)通道四部分組成。
在裝填加氫催化劑前，若發(fā)現(xiàn)直徑小于0.85mm的催化劑和細(xì)粉含量大于0.5m%時(shí)，則應(yīng)在裝填前重新過篩。
在30mL1mol/L氯化鈉溶液和40mL的0.5mol/L氯化鈣溶液混合后，混合溶液中-Cl離子的摩爾濃度為[溶液體積變化忽略不計(jì)]（）mol/L。
壓縮機(jī)壓縮比增大會(huì)造成（）
制氫裝置提量、降量的操作原則什么？
集散控制系統(tǒng)又稱分散控制系統(tǒng)，它是以微型計(jì)算機(jī)為基礎(chǔ)的，將顯示操作部分高度集中，而將控制部分分散的一種控制系統(tǒng)。
鍋爐系統(tǒng)生產(chǎn)時(shí)汽包出現(xiàn)虛假液位主要是由給水量與蒸汽量之間的物料平衡關(guān)系破壞所引起的。
原料油中的鐵含量是造成加氫反應(yīng)器床層堵塞，壓力降增大的主要原因。