填空題F0代表()。
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簡(jiǎn)述C-A003產(chǎn)品精餾塔的主要控制點(diǎn)(流量,壓力,溫度)及動(dòng)設(shè)備代號(hào)名稱(chēng)?
題型:?jiǎn)柎痤}
請(qǐng)簡(jiǎn)單寫(xiě)出H2滅火的方法?
題型:?jiǎn)柎痤}
請(qǐng)簡(jiǎn)單寫(xiě)出氮?dú)鈿鉁缁鸬姆椒ǎ?/p>
題型:?jiǎn)柎痤}
簡(jiǎn)述為什么反應(yīng)釜升溫之前,反應(yīng)釜的壓力不直接均壓至6.5Mpa?
題型:?jiǎn)柎痤}
請(qǐng)問(wèn)電加熱器E-A016在運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí),發(fā)現(xiàn)各級(jí)溫差明顯過(guò)大,請(qǐng)問(wèn)可能原因和處理手段。
題型:?jiǎn)柎痤}
請(qǐng)畫(huà)出氮封系統(tǒng)原理圖,并說(shuō)明氮封系統(tǒng)工作原理。
題型:?jiǎn)柎痤}
請(qǐng)簡(jiǎn)述MDA投料現(xiàn)場(chǎng)操作?
題型:?jiǎn)柎痤}
HMDA裝置具有雙程控制的控制點(diǎn)有哪些?
題型:?jiǎn)柎痤}
請(qǐng)簡(jiǎn)述C-A001塔底向D-A007轉(zhuǎn)料現(xiàn)場(chǎng)操作?
題型:?jiǎn)柎痤}
請(qǐng)簡(jiǎn)單寫(xiě)出原料工序的控制方案?
題型:?jiǎn)柎痤}